黑科技进修手册_第110节 首页

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   第110节 (第2/3页)

   研究生赶紧登陆国知网搜索关键字,真的看到了?13.5nm光源系统设备技术被攻破的专利申请!

    “卧槽……比asml还高0.5nm,盛神牛逼了?。”

    研究生回头看向电子发烧友论坛,露出?空虚的笑容,拿起?手机,重新开贴、编辑文字,上传国知网图片,发送。

    然后面带微笑,安静等待即将炸锅的网络。

    ***

    约定的十日之期很快到来,几个半导体龙头企业里的实权人物联系曹书记,询问他的解决之法是什么。

    曹书记含蓄的邀请他们参加下周的华国国际半导体技术大会。

    众人:“??”

    曹书记:“解救鸿芯骗局,使津市半导体产业起?死回生的办法就在国际半导体技术大会!”

    众人都不是蠢货,很快通过联想猜出?技术大会很可能会颁布某项足以将津市半导体产业拉出?泥淖的技术。

    但那该是什么样的技术才?能做到?除非是——

    堪比euv的高阶光刻机!

    ***

    六月下旬,华国国际半导体技术大会(cstic)在申市国际会议中心召开。

    华国国际半导体技术大会是华国电子商会(cecc)和国际半导体设备与材料协会(semi)共同合作举办的,华国最?全?面的、最?大的一个半导体技术大会,会议讨论内容涵盖半导体设备和技术的方方面面,受邀人员有国内外?知名的半导体技术人才?和专家。

    大会一共有两?个主要的环节,一是颁奖会,二是半导体技术相关的主题演讲,由来自设备、集成设计、光刻和材料等方面的专家进行演讲,分?享他们的最?新技术。

    该技术大会如期到来,而今年的参赛者比往年多?出?整整两?倍,在线观看人数超过往年的三四倍,令得知数据的主办方也惊讶不已。

    他们不知道?的是所有人关注cstic的原因是蓝河科技日前在围脖官网发布的博文:蓝河科技工程师将于cstic公开演讲13.5nm光源系统设备技术——

    当然不是真的大方分?享技术,说?白了?就是去一个国际化的舞台开始他们的表演。

    第72章 山巍[04] 科技霸权!

    研究生的贴在电子发烧友论坛里火了,连翻十几页,盖了一栋两?千层大楼,楼里都是来求证的半导体圈内人。

    【13.5nm光源系统设备专利注册……吹吧,吹到牛皮破了说不定国外人真相信了。】

    【专利都申请,不可能有假吧?】

    【建议你查一查汉芯事件,当年凭一块美国二手芯片在国内注册专利,狂揽十几亿。学术圈造假比比皆是,诺贝尔奖都能造假,何况一个专利?】

    【要真是13.5nm光源系统设备被?研发出来,堪比euv的国产光刻机就?能造出来了吧?我国多久能追上asml?】

    【傻吗你?人家asml四五十年前开始研究光刻机,集齐全球两?千多名顶级工程师,镜头用德国蔡司,光源用美国cymer,垄断双工作台技术……我国追上现在的asml至少需要二十年!】

    【我国虽然不至于?举国之力研发光刻机,但这方面也?布局二十多年,不至于?被?asml比到尘埃去吧?】

    【申市微电子科技目前只能造出90nm工艺制程的光刻机,还不确定是否能量产,你说差距多大?】

    【怎么歪楼了?不是涛13.5nm光源系统设备是否真的被?研发出来吗?】

 
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